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  • 1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統
    時間:2023-11-02生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:3968

    產品用途:此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

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  • 1200℃雙管滑動式單溫區/多溫區CVD系統
    時間:2023-11-02生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:4203

    產品用途:此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

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  • CVD系統
    時間:2023-11-02生產地址:天津廠商性質:生產廠家瀏覽量:10791

    CVD系統系周期作業,供企業實驗室,大專院校,科研院所等單位選用,設備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實驗環境,應用在半導體,納米技術,碳纖維等新材料新工藝領域。

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